世创科技PVD技术工艺特点
1、电子束发生器功率的提高，几乎可以蒸发所有物质，(如金属钨、铂等)，即使饱和蒸气压较低的元素(如Mo、Nb等)也能利用该工艺蒸发;
2、电子束功率易于调节，束斑尺寸和位置易于控制，有利于精确控制涂层厚度;
3、坩埚采用水冷，避免了高温下蒸镀材料与坩埚发生化学反应，还可避免坩埚排气污染膜层;
4、采用电子束加热基板，可使基板温度稳定，易于控制，使沉积层不受加热源的污染;
5、与其他蒸镀方法比，蒸发速率和沉积速率高(分别可达10kg/h~15kg/h和100μm/min~150μm/min)，工艺重复性好;特别是大功率电子枪的出现，使制备大尺寸的板材以及多层材料成为现实;
6、沉积过程中蒸发出的原子团能量较低，减弱层界面扩散、混合作用，有利于获得具有清晰、明锐界面的多层材料;
7、选择适当的工艺参数，可得到与被蒸镀材料的成分相同、元素含量基本一致的涂层;
8、基体与涂层之间有较高的结合力;
9、涂层的沉积是在真空状态下进行的，有利于防止基体与涂层材料的污染和氧化，因此可以获得质量较高的涂层;
10、得到的涂层的应变容限高，使涂层的抗热冲击性能明显提高。
等离子喷涂热障涂层的疲劳寿命一般仅为EB-PVD涂层的30%~40%。
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